Az ASML legújabb előrelépése az extrém ultraibolya (EUV) fényforrások terén egy új megközelítésen alapul, amely három lézerimpulzus alkalmazásával célozza meg a fényforrás teljesítményének növelését. Ebben az innovatív folyamatban a cél az, hogy a fényáram elérje vagy akár meghaladja a 800 wattot, amely jelentős fejlesztést jelenthet a chipgyártás számára.
Az EUV fény előállítása bonyolult fizikai folyamatokon alapul: kis, gyorsan mozgó óncseppeket bombáznak lézerek segítségével, amikből erősen ionizált plazma keletkezik, így szabadulnak fel a kívánt nagy energiájú fotonok. A bemutatott újítás egyik kulcsa a három lézerimpulzus finomhangolt időzítése, amelyek közül egy előlapító, egy ritkító és egy fő, energiadús lézerimpulzus alkotja az összetett szekvenciát. Különös figyelmet kap a cseppek alakjának és sűrűségének befolyásolása, amely kritikus a hatékonyság és a felesleges törmelék minimalizálása szempontjából.
Az előadás kitér arra is, hogy mekkora technológiai kihívást jelent a cseppek helyes találása, illetve a három különböző lézer „együttműködése”. A kulcsfontosságú műszaki kérdések közé tartozik, hogyan lehet a konverziós hatékonyságot növelni, a plazma sűrűségét optimálisan szabályozni és közben csökkenteni a keletkező törmelék mennyiségét, amely az optikai alkatrészek élettartamát is befolyásolja.
Felmerül több érdekes tudományos, mérnöki és ipari dilemma: milyen pontos technikai megoldások szükségesek a háromimpulzusú rendszer összehangolásához, milyen visszacsatolási rendszerek segíthetnek a cseppek tökéletes eltalálásában, vagy milyen mértékű kapacitásnövelés érhető el az új EUV forrásokkal? A videó betekintést kínál a legmodernebb félvezető-gyártási technológiákba, felvázolva azokat az akadályokat és lehetőségeket, amelyek a következő évek ipari innovációit meghatározhatják.
