Egyre kisebb tranzisztorok létrehozásához soha nem látott összetettségű gépekre van szükség. A félvezetőipar olyan extrém ultraviola litográfiás gépeket fejlesztett ki, amelyek lézersugarakkal bombázzák a cseppfolyós ónt, hogy láthatatlan fényt állítsanak elő – mindezt azért, hogy néhány nanométeres mintázatokat marhassanak bele a szilíciumba.
A chipgyártás jelenlegi korlátait a fény hullámhossza szabja meg, így a technológia fizikájába ütközött. Ez olyan újításokat sürget, mint a szabadelektron-lézerek (FEL-ek), amelyek gyorsított elektronokkal generálnak még rövidebb hullámhosszú fényt. Ezek az eszközök már nemcsak mérnöki, hanem részecskefizikai szintű problémákat vetnek fel, amelyek teljesen megváltoztathatják a gyárak kinézetét, felépítését és működését is.
Különböző országok – köztük az Egyesült Államok, Japán és Kína – teljesen eltérő stratégiákkal próbálják megoldani az új fényforrás előállításának problémáját. Egyesek az extrém teljesítményt, mások a hatékonyságot vagy a méretcsökkentést helyezik előtérbe. Mindez hatalmas ipari és gazdasági kérdéseket vet fel, nem is beszélve a technológiai szuverenitásról és arról, hogy ki birtokolja a következő nagy áttöréshez szükséges infrastruktúrát és tudást.
Felvetődik a kérdés: vajon mikor válthatják le a részecskegyorsítókon alapuló fényforrások a jelenlegi, bonyolult és energiaigényes EUV-lézerrendszereket? És egyáltalán képesek lesznek-e megfelelni a folyamatos működtetés, a költséghatékonyság és az azonnali ipari alkalmazhatóság követelményeinek?
